如何實現光學平臺的隔振？

光學平臺廣泛應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工、無損檢測、機械工業中的精密測試儀器及設備振動隔離。它的動態力學性能直接影響試驗結果的準確性和可靠性。其微振動特性直接影響精密儀器的測量精度。由于精密隔振要求的提高，光學平臺的振動隔離技術需要進一步改進。

在進行隔振系統設計時，需要考慮的干擾因素比較復雜，主要有：大型建筑物本身的搖擺、地面或地面的振動、電器設備的振動、各種機械的振動、聲音引起的振動、外部道路交通的振動，甚至人類行走引起的振動。

分光計的選擇對提高實驗精度有重要意義。光平臺的隔振一般可以通過三種方式來實現：

隔振器：一般氣浮式隔振支架的性能一般好于阻尼隔振支架，有些性能優良的隔振支架可達到一到兩個數量級(一般在10~200赫茲)。

臺式機質：要求臺面有一定剛度，且重量輕(硬重比)，使臺面能有效地減少共振時的振幅，本文稍后將介紹。

臺面內部結構：臺面內部結構不但可減小支架，而且可減少或消除桌面沖擊及相對運動產生的振動。

優質的光學平臺不僅要有高精度的機械加工，還要有高科技精度的檢測手段和儀器，高質量的光學平臺才能保證光學實驗的高精度和科研的正常進行。

STACISIII為柔性主動隔振系統。采用先進的慣性振動傳感器、控制算法和壓電驅動器，通過連續測量地面運動，再濾縮地面運動，實現實時消振。本系統包括改進版的DC-2020數字控制器。新一代雙核處理器、以太網和USB串行接口，為用戶提供現代、易用的圖形用戶界面(GUI)，是一種全新的控制系統。精微光刻、測量和檢測設備，是工業標準解決方案，隔離先進半導體工廠(包括但不限于：半導體工廠、故障分析實驗室、納米技術研究、納米制造設施和材料研究中心)。